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Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies

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Éditeur :

Springer

Paru le : 2006-03-20

Interconnect has become the dominating factor in determining system performance in nanometer technologies. Dedicated to this subject, Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies provides insight and intuition into layout analysis and optimization for interconnect in high speed, high co...
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Description du livre

Interconnect has become the dominating factor in determining system performance in nanometer technologies. Dedicated to this subject, Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies provides insight and intuition into layout analysis and optimization for interconnect in high speed, high complexity integrated circuits. The authors bring together a wealth of information presenting a range of CAD algorithms and techniques for synthesizing and optimizing interconnect. Practical aspects of the algorithms and the models are explained with sufficient details. The book investigates the most effective parameters in layout optimization. Different post-layout optimization techniques with complexity analysis and benchmarks tests are provided. The impact crosstalk noise and coupling on the wire delay is analyzed. Parameters that affect signal integrity are also considered.

À propos

Auteur
Magdy A. Bayoumi , Mohamed Elgamel
Éditeur
Springer
Collection
n.c
Parution
2006-03-20
Pages
137 pages
EAN papier
9780387258706

Auteur(s) du livre


Defaut-Illustration Magdy A. Bayoumi
Defaut-Illustration Mohamed Elgamel

Caractéristiques détaillées - droits

EAN PDF
9780387293660
Prix
94,94 €
Nombre pages copiables
1
Nombre pages imprimables
13
Taille du fichier
10086 Ko
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